फॉर्मिक एसिड 94%
प्रक्रिया
हम सबसे उन्नत मिथाइल फॉर्मेट तकनीक द्वारा फॉर्मिक एसिड का उत्पादन करते हैं। सबसे पहले, मिथाइल फॉर्मेट को उत्प्रेरक की क्रिया के साथ सीओ और मेथनॉल से उत्पादित किया जाता है। एक निश्चित तापमान और दबाव के तहत, मिथाइल फॉर्मेट फॉर्मिक एसिड में हाइड्रोलाइज्ड हो जाता है। ग्राहकों की विभिन्न आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए कम शुद्धता वाले फॉर्मिक एसिड समाधान को उच्च शुद्धता वाले समाधान पर केंद्रित किया जाएगा।
प्रतिक्रिया समीकरण: HCOOCH3+H2O HCOOH+CH3OH उत्पादन
आवेदन
1. लेटेक्स उद्योग: जमावट, आदि।
2. फार्मास्युटिकल उद्योग: कैफीन, एनलगिन, एमिनोपाइरिन, एमिनोफिल-लाइन, थियोब्रोमाइन बोमोल, विटामिन बी1, मेट्रोनिडाजोल, मेबेंडाजोल, आदि।
3. कीटनाशक उद्योग: ट्रायडाइमफ़ोन, ट्रायज़ोलोन, ट्राईसाइक्लज़ोल, ट्राईज़ोल, ट्रायज़ोफ़ॉस, पैक्लोबुट्राज़ोल, सुमैजिक, डिसइन्फ़ेस्ट, डाइकोफ़ोल, आदि।
4. रासायनिक उद्योग: कैल्शियम फॉर्मेट, सोडियम फॉर्मेट, अमोनियम फॉर्मेट, पोटेशियम फॉर्मेट, एथिल फॉर्मेट, बेरियम फॉर्मेट, डीएमएफ, फॉर्मामाइड, रबर एंटीऑक्सीडेंट, पेंटाएरीथ्राइट, नियोपेंटाइल ग्लाइकोल, ईएसओ, 2-एथी! एपॉक्सीडाइज्ड सोयाबीन तेल का हेक्सिल एस्टर, पिवलॉयल क्लोराइड, पेंट रिमूवर, फेनोलिक रेजिन, स्टील उत्पादन की एसिड सफाई, मीथेन एमाइड, आदि।
5. चमड़ा उद्योग: टैनिंग, डिलिमिंग, न्यूट्रलाइज़र, आदि।
6. कुक्कुट उद्योग: सिलेज, आदि।
7. अन्य: प्रिंटिंग और डाइंग मॉर्डेंट का भी निर्माण कर सकते हैं। फाइबर और कागज, प्लास्टिसाइज़र, खाद्य ताज़ा रखने, फ़ीड योजक आदि के लिए रंग और परिष्करण एजेंट
8. सीओ का उत्पादन: रासायनिक प्रतिक्रिया: एचसीओओएच = (घना एच, एसओ 4 उत्प्रेरक) गर्मी = सीओ + एच, ओ
9. डीऑक्सीडाइज़र: परीक्षण As, Bi, Al, Cu, Au, Im, Fe, Pb, Mn, Hg, Mo, Ag, Zn, आदि। परीक्षण Ce, Re, Wo। परीक्षण सुगंधित प्राथमिक अमाइन, द्वितीयक अमाइन.डिस- आणविक डब्ल्यूटी और क्रिस्टलीकरण के परीक्षण के लिए विलायक। मेथॉक्सिल का परीक्षण करें।
10.सूक्ष्म विश्लेषण के लिए फिक्स-एर। फॉर्मेट, रासायनिक सफाई एजेंट का उत्पादन, फॉर्मिक एसिड सीएल से मुक्त है, स्टेनलेस स्टील उपकरण की सफाई के लिए इस्तेमाल किया जा सकता है
वस्तु |
| ||
90% | |||
बेहतर | प्रथम श्रेणी | योग्य | |
फॉर्मिक एसिड, w/% ≥ | 90 | ||
रंग/हज़ेन(pt-सह)≤ | 10 | 20 | |
तनुकरण(नमूना+पानी=1十3) | स्पष्ट | परीक्षा पास करो | |
क्लोराइड(सीएल के रूप में),w/%≤ | 0.0005 | 0.002 | 0.002 |
सल्फेट(SO4 के रूप में),w/%≤ | 0.0005 | 0.001 | 0.005 |
लोहा(Fe के रूप में)w/%≤ | 0.0001 | 0.0004 | 0.0006 |
वाष्पीकरण अवशेष w/% ≤ | 0.006 | 0.015 | 0.02 |