फॉर्मिक एसिड भौतिक रासायनिक पदार्थ
फॉर्मिक एसिड भौतिक रासायनिक पदार्थ,
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प्रक्रिया
हम उत्पादन करते हैंचींटी का तेजाबसबसे उन्नत मिथाइल फॉर्मेट द्वारा
तकनीकी। सबसे पहले, मिथाइल फॉर्मेट को उत्प्रेरक की क्रिया के साथ सीओ और मेथनॉल से उत्पादित किया जाता है। एक निश्चित तापमान और दबाव के तहत, मिथाइल फॉर्मेट को फॉर्मिक एसिड में हाइड्रोलाइज किया जाता है। विभिन्न आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए कम शुद्धता वाले फॉर्मिक एसिड घोल को उच्चतर घोल में केंद्रित किया जाएगा-
ग्राहकों के विचार.
प्रतिक्रिया समीकरण:HCOOCH3+H2O HCOOH+CH3OH उत्पादन
आवेदन
1. लेटेक्स उद्योग: जमावट, आदि।
2. फार्मास्युटिकल उद्योग: कैफीन, एनलगिन,
एमिनोपाइरिन, एमिनोफिल-लाइन, थियोब्रोमाइन बोमोल, विटामिन बी1, मेट्रोनिडाजोल, मेबेंडाजोल, आदि।
3. कीटनाशक उद्योग: ट्रायडाइमफ़ोन, ट्रायज़ोलोन,
ट्राइसाइक्लाज़ोल, ट्राईज़ोल, ट्रायज़ोफ़ॉस, पैक्लोबुट्राज़ोल, सुमैजिक, डिसइन्फ़ेस्ट, डाइकोफ़ोल, आदि।
4.रासायनिक उद्योग: कैल्शियम फॉर्मेट, सोडियम फॉर्मेट, अमोनियम फॉर्मेट, पोटेशियम फॉर्मेट, एथिल फॉर्मेट, बेरियम फॉर्मेट, डीएमएफ, फॉर्मामाइड, रबर एंटीऑक्सीडेंट, पेंटाएरीथ्राइट, नियोपेंटाइल ग्लाइकोल, ईएसओ, 2-एथी! एपॉक्सीडाइज़्ड सोयाबीन तेल का हेक्सिल एस्टर, पिवलॉयल क्लोराइड,
पेंट रिमूवर, फेनोलिक रेजिन, स्टील उत्पादन की एसिड सफाई, मीथेन एमाइड, आदि।
5. चमड़ा उद्योग: टैनिंग, डिलीमिंग, न्यूट्रलाइज़र, आदि।
6. पोल्ट्री उद्योग: सिलेज, आदि।
7. अन्य: मुद्रण और रंगाई मोर्डेंट.रंग का भी निर्माण कर सकते हैं
और फाइबर और कागज, प्लास्टिसाइज़र, खाद्य ताज़ा रखने, फ़ीड एडिटिव आदि के लिए फिनिशिंग एजेंट
8. उत्पादन सीओ:रासायनिक प्रतिक्रिया: HCOOH=(घना H, So4उत्प्रेरित)गर्मी=CO+H,O
9.डीऑक्सीडाइज़र: परीक्षण As, Bi, Al, Cu, Au, Im, Fe, Pb, Mn, Hg, Mo, Ag, Zn, आदि। परीक्षण Ce, Re, Wo। परीक्षण सुगंधित प्राथमिक अमाइन, माध्यमिक अमाइन.डिस- आणविक डब्ल्यूटी और क्रिस्टलीकरण के परीक्षण के लिए विलायक। मेथॉक्सिल का परीक्षण करें।
10.सूक्ष्म विश्लेषण के लिए फिक्स-एर। फॉर्मेट, रासायनिक सफाई एजेंट का उत्पादन, फॉर्मिक एसिड सीएल से मुक्त है, स्टेनलेस स्टील उपकरण की सफाई के लिए इस्तेमाल किया जा सकता है
वस्तु | विशेष विवरण | |||
85% | ||||
बेहतर | प्रथम-कैल्स | योग्य | ||
फॉर्मिक एसिड, w/% ≥ | 85 | |||
रंग/हज़ेन(Pt-Co)≤ | 10 | 20 | 30 | |
तनुकरण(नमूना+पानी=1十3) | स्पष्ट | परीक्षा पास करो | ||
क्लोराइड (Cl के रूप में), w/% ≤ | 0.002 | 0.004 | 0.006 | |
सल्फेट्स (SO4 के रूप में), w/% ≤ | 0.001 | 0.002 | 0.02 | |
आयरन (Fe के रूप में) w/% ≤ | 0.0001 | 0.0004 | 0.0006 | |
वाष्पीकरण अवशेष w/% ≤ | 0.006 | 0.02 | 0.06 |
ज्वलनशील. यह पानी, इथेनॉल, ईथर और ग्लिसरॉल और अधिकांश ध्रुवीय कार्बनिक सॉल्वैंट्स के साथ मिश्रणीय हो सकता है, और हाइड्रोकार्बन में भी इसकी एक निश्चित घुलनशीलता होती है।
सापेक्ष घनत्व (d204) 1.220 है। अपवर्तनांक
1.3714. दहन ऊष्मा 254.4 kJ/mol है, क्रांतिक तापमान 306.8 ℃ है, और क्रांतिक दबाव 8.63 MPa है। फ़्लैश बिंदु 68.9 ℃ (खुला कप)। घनत्व 1.22, सापेक्ष वाष्प घनत्व 1.59 (वायु =1), संतृप्त वाष्प दबाव (24℃) 5.33kPa।
सर्दियों में फॉर्मिक एसिड की उच्च सांद्रता जम जाती है।
निषिद्ध यौगिक: मजबूत ऑक्सीडेंट, मजबूत क्षार, सक्रिय धातु पाउडर।
खतरनाक विशेषताएं: वाष्प और वायु एक विस्फोटक मिश्रण बनाते हैं, जो खुली आग और उच्च ताप ऊर्जा के मामले में दहन और विस्फोट का कारण बनता है। मजबूत ऑक्सीडेंट के साथ प्रतिक्रिया करता है।
घुलनशीलता: पानी में घुलनशील, हाइड्रोकार्बन में अघुलनशील, अल्कोहल में घुलनशील।
हाइड्रोकार्बन और गैसीय अवस्था में, फॉर्मिक एसिड हाइड्रोजन बांड द्वारा बंधे डिमर के रूप में होता है। गैसीय अवस्था में, हाइड्रोजन बंधन के परिणामस्वरूप फॉर्मिक एसिड गैस और राज्य के आदर्श गैस समीकरण के बीच बड़ा विचलन होता है। तरल और ठोस फॉर्मिक एसिड में हाइड्रोजन बांड द्वारा बंधे निरंतर फॉर्मिक एसिड अणु होते हैं।
सांद्र सल्फ्यूरिक एसिड के उत्प्रेरण के तहत फॉर्मिक एसिड CO और H2O में विघटित हो जाता है:
फॉर्मिक एसिड की विशेष संरचना के कारण, इसका एक हाइड्रोजन परमाणु सीधे कार्बोक्सिल समूह से जुड़ा होता है। या आप इसे हाइड्रॉक्सीफॉर्मेल्डिहाइड के रूप में देख सकते हैं। इस प्रकार फॉर्मिक एसिड में एसिड और एल्डिहाइड दोनों गुण होते हैं।
फॉर्मिक एसिड में अधिकांश अन्य कार्बोक्जिलिक एसिड के समान गुण होते हैं, हालांकि सामान्य परिस्थितियों में फॉर्मिक एसिड एसाइल क्लोराइड या एनहाइड्राइड नहीं बनाता है। निर्जलीकरण फॉर्मिक एसिड को कार्बन मोनोऑक्साइड और पानी में विघटित करता है। फॉर्मिक एसिड में एल्डिहाइड के समान कम करने वाले गुण होते हैं। यह सिल्वर मिरर प्रतिक्रिया शुरू कर सकता है, सिल्वर अमोनिया कॉम्प्लेक्स आयनों में सिल्वर आयनों को सिल्वर धातु में कम कर सकता है, और स्वयं कार्बन डाइऑक्साइड और पानी में ऑक्सीकृत हो जाता है:
फॉर्मिक एसिड एकमात्र कार्बोक्जिलिक एसिड है जिसे ओलेफिन में जोड़ा जा सकता है। एसिड की क्रिया में फॉर्मिक एसिड (जैसे सल्फ्यूरिक एसिड, हाइड्रोफ्लोरिक एसिड), और ओलेफ़िन फॉर्मेट बनाने के लिए जल्दी से प्रतिक्रिया करते हैं। हालाँकि, कोच प्रतिक्रिया के समान एक साइड प्रतिक्रिया भी हो सकती है, जिसमें उत्पाद उच्च कार्बोक्जिलिक एसिड होता है।
ऑक्टेनॉल/जल विभाजन गुणांक का युग्म मान: -0.54, ऊपरी विस्फोट सीमा % (V/V) : 57.0, निचली विस्फोट सीमा % (V/V) : 18.0।
फॉर्मिक एसिड एक मजबूत कम करने वाला एजेंट है और सिल्वर मिरर प्रतिक्रिया हो सकती है। यह संतृप्त फैटी एसिड में सबसे अधिक अम्लीय है, और पृथक्करण स्थिरांक 2.1×10-4 है। कमरे के तापमान पर यह धीरे-धीरे कार्बन मोनोऑक्साइड और पानी में टूट जाता है। कार्बन मोनोऑक्साइड को विघटित करने और छोड़ने के लिए इसे सांद्र सल्फ्यूरिक एसिड के साथ 60~80℃ तक गर्म किया जाता है। जब फॉर्मिक एसिड को 160 डिग्री सेल्सियस से ऊपर गर्म किया जाता है, तो यह विघटित होकर कार्बन डाइऑक्साइड और हाइड्रोजन छोड़ता है। फॉर्मिक एसिड के क्षार धातु लवण को ऑक्सालेट बनाने के लिए 400 डिग्री सेल्सियस तक गर्म किया जाता है।
आणविक संरचना डेटा
1. मोलर अपवर्तनांक: 8.40
2. मोलर आयतन (एम/मोल) : 39.8
3. आइसोट्रोपिक विशिष्ट आयतन (90.2K) : 97.5
4, सतह तनाव (डाइन/सेमी): 35.8
5, ध्रुवीकरण (10 सेमी) : 3.33